SAPOL拋光液：適用于藍寶石、陶瓷、鉭酸鋰、玻璃等非金屬材料CMP的拋光液。
COPOL拋光液：適用于化合物半導體CMP的拋光液。
無紡布拋光墊：通常被使用于粗磨或中磨，具有一定程度的平坦性和平滑性。
阻尼布拋光墊：通常被使用于高平滑性，低欠陷性的精磨工序。
固態(tài)蠟： 粘結牢固，無氣泡或高低不均等不良，可解決加工過程中因粘結造成的裂片等問題。
吸附墊：將工件黏附在制具上，潤濕后特殊微孔吸附住工件，使工件在加工過程中固定不脫落。
分散劑：可均一分散難于溶解于液體的固體及液體顆粒，同時防止顆粒的沉降和凝聚。
